Lithography စက် Mask Aligner Photo-Etching စက်
ထုတ်ကုန်မိတ်ဆက်
အလင်းဝင်သည့် အရင်းအမြစ်သည် သေးငယ်သော အပူနှင့် ကောင်းသော အလင်းရင်းမြစ် တည်ငြိမ်မှုတို့ဖြင့် တင်သွင်းလာသော UV LED နှင့် အလင်းအရင်းအမြစ်ပုံသဏ္ဍာန် module ကို လက်ခံသည်။
ပြောင်းပြန်အလင်းရောင်ဖွဲ့စည်းပုံသည် ကောင်းသောအပူကို ပျံ့နှံ့စေသည့်အကျိုးသက်ရောက်မှုနှင့် အလင်းရင်းမြစ်နီးကပ်သည့်အကျိုးသက်ရောက်မှုရှိပြီး ပြဒါးမီးခွက်အစားထိုးခြင်းနှင့် ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုမှာ ရိုးရှင်းပြီး အဆင်ပြေပါသည်။မြင့်မားသော ချဲ့ထွင်နိုင်သော binocular dual field microscope နှင့် 21-inch wide screen LCD တို့ တပ်ဆင်ထားပြီး၊ ၎င်းသည် အမြင်အာရုံကို ချိန်ညှိနိုင်သည်။
မြင့်မားသော ချိန်ညှိတိကျမှု၊ အလိုလိုသိသော လုပ်ငန်းစဉ်နှင့် အဆင်ပြေသောလည်ပတ်မှုတို့နှင့်အတူ eyepiece သို့မဟုတ် CCD + မျက်နှာပြင်။
အင်္ဂါရပ်များ
အပိုင်းအစများ လုပ်ဆောင်ခြင်း လုပ်ဆောင်ချက်ဖြင့်
ထိတွေ့မှုဖိအားကို ချိန်ညှိခြင်းသည် အာရုံခံကိရိယာမှတစ်ဆင့် ထပ်တလဲလဲဖြစ်နိုင်ချေကို သေချာစေသည်။
alignment gap နှင့် exposure gap ကို ဒစ်ဂျစ်တယ်နည်းဖြင့် သတ်မှတ်နိုင်သည်။
ထည့်သွင်းထားသော ကွန်ပျူတာ + ထိတွေ့မျက်နှာပြင်ကို အသုံးပြု၍ ရိုးရှင်းပြီး အဆင်ပြေ၊ လှပပြီး ရက်ရောသည်။
အပေါ်အောက်ဆွဲပြားအမျိုးအစား၊ ရိုးရှင်းပြီးအဆင်ပြေသည်။
လေဟာနယ် ထိတွေ့မှု ထိတွေ့မှု၊ ထိတွေ့မှု ပြင်းထန်မှု၊ ဖိအား ထိတွေ့မှု နှင့် နီးကပ်စွာ ထိတွေ့မှုကို ပံ့ပိုးပေးသည်။
nano imprint interface လုပ်ဆောင်ချက်ဖြင့်
သော့တစ်ခုတည်းဖြင့် အလွှာတစ်ခုတည်း ထိတွေ့မှု၊ အလိုအလျောက်စနစ်၏ မြင့်မားသောအဆင့်
ဤစက်သည် ယုံကြည်စိတ်ချရပြီး သက်တောင့်သက်သာရှိသော သရုပ်ပြမှုပါရှိပြီး အထူးသဖြင့် သင်ကြားမှု၊ သိပ္ပံသုတေသနနှင့် ကောလိပ်များနှင့် တက္ကသိုလ်များရှိ စက်ရုံများတွင် သင့်လျော်သည်။
အသေးစိတ်အချက်များ
သတ်မှတ်ချက်
1. အလင်းဝင်ဧရိယာ- 110mm × 110mm;
2. ★ Exposure wavelength: 365nm;
3. Resolution: ≤ 1m;
4. ချိန်ညှိမှုတိကျမှု- 0.8m;
5. alignment စနစ်၏စကင်ဖတ်စစ်ဆေးခြင်းဇယား၏ရွေ့လျားမှုအကွာအဝေးသည်အနည်းဆုံးတွေ့ဆုံရမည်- Y: 10mm;
6. ချိန်ညှိစနစ်၏ ဘယ်နှင့်ညာ အလင်းပြွန်များသည် X၊ y နှင့် Z လမ်းညွှန်ချက်များ၊ X ဦးတည်ချက်- ± 5mm၊ Y ဦးတည်ချက်- ± 5mm နှင့် Z ဦးတည်ချက်- ± 5mm;
7. မျက်နှာဖုံးအရွယ်အစား- 2.5 လက်မ၊ 3 လက်မ၊ 4 လက်မ၊ 5 လက်မ;
8. နမူနာအရွယ်အစား: အပိုင်းအစ, 2 ", 3", 4 ";
9. ★ နမူနာအထူ- 0.5-6mm အတွက် သင့်လျော်ပြီး 20mm နမူနာအပိုင်းများကို အများဆုံး (စိတ်ကြိုက်ပြုလုပ်နိုင်သည်);
10. အလင်းဝင်မုဒ်- အချိန်ကိုက် (နှစ်သစ်မုဒ်);
11. အလင်းရောင် တူညီမှုမရှိခြင်း- ＜ 2.5%;
12. Dual field CCD ချိန်ညှိမှု အဏုကြည့်မှန်ဘီလူး (1-5 ကြိမ်) + အဏုကြည့်မှန်ဘီလူး၊
13. နမူနာနှင့် ပတ်သက်သော မျက်နှာဖုံး၏ ရွေ့လျားမှု လေဖြတ်မှုသည် အနည်းဆုံး ပြည့်မီရမည်- X: 5mm;Y: 5mm;: 6º;
14. ★ Exposure energy density: > 30MW/cm2၊
15. ★ alignment position နှင့် exposure position သည် station နှစ်ခုတွင် အလုပ်လုပ်ပြီး station servo motor နှစ်ခုသည် အလိုအလျောက် switches;
16. ထိတွေ့မှုဖိအားကို ချိန်ညှိခြင်းသည် အာရုံခံကိရိယာမှတစ်ဆင့် ထပ်တလဲလဲဖြစ်နိုင်ချေကို သေချာစေသည်။
17. ★ alignment gap နှင့် exposure gap ကို ဒစ်ဂျစ်တယ်ဖြင့် သတ်မှတ်နိုင်သည်။
18. ★ ၎င်းတွင် nano imprint interface နှင့် proximity interface ပါရှိသည်။
19. ★ ထိတွေ့မျက်နှာပြင် လုပ်ဆောင်ချက်၊
20. စုစုပေါင်းအတိုင်းအတာ- 1400mm (အရှည်) 900mm (အကျယ်) 1500mm (အမြင့်) ခန့်။
